氮氣烤箱，充氮潔凈烤箱用于IC封裝，LCD,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板、高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業.
氮氣烤箱，充氮潔凈烤箱概述：
充氮潔凈烤箱在工作時，工作室內充滿了惰性氣體CO2,N2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業中的用途：IC包裝，LCD,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……
氮氣烤箱，充氮潔凈烤箱技術參數
1.名稱及型號：氮氣烤箱
2.氮氣烤箱主要技術指標：
2.1含氧量：<500/100/50ppm;
2.2溫度范圍：RT（室溫）+10～200/300℃；
2.3溫度均勻度：±1℃;（空載）
2.4溫度波動度：±0.5℃（空載）
2.5溫控精度：0.1℃;
2.6烘箱擱板為活動形式。
2.7工作尺寸：自定義
2.8烤箱裝有進氮氣孔,配有玻璃流量轉子器
結構：
烤箱由箱體部分、電器控制柜部分、電加熱及風道系統部分組裝而成，結構合理，外觀美觀大方；
無塵無氧烤箱，PI無塵固化烤箱
無塵無氧烤箱，PI無塵固化烤箱概述
應用于精密電子元件、PI、BCB膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業.
二．無塵無氧烤箱，PI無塵固化烤箱技術參數
1.主要技術指標
Ø 材質：外箱采用優質不銹鋼，內箱采用SUS304不銹鋼
Ø 溫度范圍：RT+10-200、400℃
Ø 溫度分辨率：0.1℃
Ø 溫度波動度：＜±1℃
Ø 溫度均勻度：≤±2%
Ø 潔凈度：class 100，設備采用無塵材料，適用100級光刻間凈化環境
Ø 氧含量
高溫狀態氧含量：≤ 20ppm +氣源氧含量
低溫狀態氧含量：≤ 50ppm +氣源氧含量
Ø 數據輸出：溫度和氧含量無紙記錄儀
2.系統結構
Ø 熱風循環系統：采用覆套式電熱器）無塵無氧化電熱發生器
Ø 氣體系統：HEPA過濾效果可達99.99%,Class100箱體內裝有氧含量分析儀
Ø 水冷系統：翅片式水冷散熱器，冷卻水通過散熱器快速帶走更多的熱量，使得箱內溫度快速下降
Ø 溫控系統：采用中能溫度控制器，內置斜率設定、PID自整定
Ø 軟件系統：控制系統采用高速型邏輯控制器，可與現場總線聯機遠程操控
3. 安全保護性能
1）短路保護
2）漏電保護
3）超溫保護，獨立感溫式超溫保護器
4）電機保護，電機過電流、水冷保護
5）電磁門禁保護，當溫度超過100℃，電子鎖自動鎖緊，防止高溫開門
