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反轉真空烘箱  圖像反轉氨氣爐
反轉真空烘箱 圖像反轉氨氣爐

反轉真空烘箱 圖像反轉氨氣爐用于鈑金加熱、淬火、退火、焊接等工藝;在電子制造業中,可以用于半導體器件制造中的退火和腐蝕等工藝;在航空航天制造業中,可以用于航空發動機和航天器材料的熱處理等。

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真空烤箱 可程式真空箱 自動真空烘箱
真空烤箱 可程式真空箱 自動真空烘箱

真空烤箱 可程式真空箱 自動真空烘箱專為干燥熱敏性、易分解和易氧化物質而設計,能夠向內部充入惰性氣體,特別是一些成分復雜的物品也能進行快速干燥。

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真空無氧化烤箱(BCB厭氧固化烤烘箱)
真空無氧化烤箱(BCB厭氧固化烤烘箱)

真空無氧化烤箱(BCB厭氧固化烤烘箱)是將涂敷BCB或PI的襯底放入真空無氧烘箱中,通入N2→真空置換后,采用多級升溫保溫的方式,在規定的時間從室溫升至第一溫度階段,并在該溫度段保溫1-2h,再在規定的時間從第一溫度升至第二溫度階段,并在該溫度段保溫一定的時間;隨后增通過輔助的降溫系統(水冷和風冷),將退火爐的溫度降至80度左右,完成固化。

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小型蒸發鍍膜儀,實驗室氣相沉積設備
小型蒸發鍍膜儀,實驗室氣相沉積設備

小型蒸發鍍膜儀,實驗室氣相沉積設備 用于真空蒸發鍍光學薄膜、有機物薄膜和金屬薄膜、在襯底上沉積各單層金屬 膜,主要用于蒸鍍電極及有機半導體材料的物理化學性能研究實驗研究 。特別適合于高科技企業、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開發。

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抗粘 劑氣相涂布烘箱,抗粘劑 氣相沉積系統
抗粘 劑氣相涂布烘箱,抗粘劑 氣相沉積系統

抗粘 劑氣相涂布烘箱,抗粘劑 氣相沉積系統主要用于納米壓印光刻(NIL)應用,防粘涂層的制備,可用于光刻工藝中硅烷涂膠;以及功率半導體,LED,MEMS,半導體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。

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芯片真空儲存柜,半導體真空氮氣柜
芯片真空儲存柜,半導體真空氮氣柜

芯片真空儲存柜,半導體真空氮氣柜半導體、電路板、電子成品、芯片、電池板、電池片、電子元器件、高級金屬制品、厭氧產品、易氧化產品等)及機金屬加工件與各類不便于冷藏的食品,還有書籍、衣物等厭氧物品的真空存貯,以防潮、防氧化變色。適用于工廠、高等院校、科研等場所。

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真空儲存柜,真空干燥柜
真空儲存柜,真空干燥柜

真空儲存柜,真空干燥柜適用于各類化工原料、貴重金屬、金屬粉末等各種固體、粉狀、糊狀、液體,電子產品(半導體、電路板、電子成品、芯片、電池板、電池片、電子元器件、高級金屬制品、厭氧產品、易氧化產品等)及機金屬加工件與各類不便于冷藏的食品,還有書籍、衣物等厭氧物品的真空存貯,以防潮、防氧化變色。適用于工廠、高等院校、科研等場所。

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