RTP快速退火爐，快速熱處理設備（RTP）簡介 快速熱處理設備（RTP）可用于砷化鎵、硅以及其他半導體材料，離子注入后的退火、硅化物的形成、歐姆接觸制備以及快速氧化、快速氮化等方面。RTP快速退火爐，快速熱處理設備（RTP）具有快速升降溫、慢速升降溫、和長工作時間穩(wěn)定等特點。也可用于各種半導體材料的CVD工藝的熱處理。

等離子去膠機，等離子表面處理機采用國內(nèi)*射頻源，其電磁兼容性能優(yōu)良、高頻輻射小，符合國家環(huán)保規(guī)定。本機外形美觀大方，操作簡便。等離子去膠機，半導體工藝表面處理機適于對基片進行去膠、清洗等工藝。該設備具有去膠工藝簡單、可靠、*、速率快、成品率高、處 理后無酸氣廢水等殘留等特點。

等離子清洗機,等離子表面處理儀是一種表面處理設備， 用氣體作為處理介質(zhì)，它是利用能量轉(zhuǎn)換技術以電能將氣體轉(zhuǎn)換為化學反應性和活性很高的氣體等離子體，等離子體對固體樣品表面進行相互作用，引起分子結(jié)構改變，從而對樣品表面的有機污染物進行超清洗和使樣品表面改性，以獲得希望的表面特性。